台积电要被换掉了!英伟达将宣布下一代GPU架构采用三星10nm工艺

2020-03-13

3月12日消息根据外媒WCCFTECH的报道,爆料消息称英伟达的下一代GPU架构将基于三星10nm制程,而不是之前报道的台积电7nm工艺,据称使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技术,另外新的Tegra芯片也将使用相同的制程。外媒表示,英伟达安培架构曝光的GPU有GA102、GA013、GA104、GA106和GA1075款,配置最高的是GA102。报道还称英伟达新款GPU将全部支持RTX(实时光线跟踪),这意味着英伟达在安培架构上对RT核心设计进行升级,使其在性能较弱的显卡中也能实现光线追踪的效果。




爆料者@CorgiKitty提供的信息显示,配置最低的GA107为1280流处理器,4GB显存,最高的GA102 GPU为5376流处理器,12GB显存,其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。IT之家曾报道,受到疫情的影响,英伟达曾宣布将月底GTC的大会改为线上直播。根据外媒anandtech的最新消息,GTC线上直播也将取消,英伟达将会采用新闻稿的形式公布新品,时间定在3月24日。


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半导体设备作为IC制造业和IC封装测试业的生产设备,是发展半导体产业的重要支柱。全球半导体技术的激烈竞争,集中反映在半导体设备的竞争上,因此半导体设备的周期与半导体技术周期曲线基本相似。集成电路产业按照摩尔定律持续发展,制程节点不断减小,同时半导体制造技术极其精细,制造工艺极其复杂,根据产品的不同,集成电路生产需要几十步甚至上千步工艺,且对产品的良率要求极高。




IC制造过程中,主要工艺包括扩散(Thermal  Process)、光刻(Photolithography)、刻蚀(Etch)、 离子注入(Ion  Implant)、薄膜生长(Dielectric Deposition)、抛光(CMP)、金属化(Metallization)7个主要工艺。这些主要工艺又可细分为具体工艺,不同具体工艺都需要不同的半导体设备以满足IC制造中不同的需求。




伴随着我国经济的高速发展,智能手机和平板电脑市场呈爆发式增长,对各类集成电路产品需求不断增长,中国已经成为全球最大的半导体需求市场。2018年全球半导体市场规模约为4373亿美元,中国半导体市场规模约为1220亿美元,中国已经成为全球最大的半导体消费市场。




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2020-03-13

3月12日消息根据外媒WCCFTECH的报道,爆料消息称英伟达的下一代GPU架构将基于三星10nm制程,而不是之前报道的台积电7nm工艺,据称使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技术,另外新的Tegra芯片也将使用相同的制程。外媒表示,英伟达安培架构曝光的GPU有GA102、GA013、GA104、GA106和GA1075款,配置最高的是GA102。报道还称英伟达新款GPU将全部支持RTX(实时光线跟踪),这意味着英伟达在安培架构上对RT核心设计进行升级,使其在性能较弱的显卡中也能实现光线追踪的效果。




爆料者@CorgiKitty提供的信息显示,配置最低的GA107为1280流处理器,4GB显存,最高的GA102 GPU为5376流处理器,12GB显存,其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。IT之家曾报道,受到疫情的影响,英伟达曾宣布将月底GTC的大会改为线上直播。根据外媒anandtech的最新消息,GTC线上直播也将取消,英伟达将会采用新闻稿的形式公布新品,时间定在3月24日。


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半导体设备作为IC制造业和IC封装测试业的生产设备,是发展半导体产业的重要支柱。全球半导体技术的激烈竞争,集中反映在半导体设备的竞争上,因此半导体设备的周期与半导体技术周期曲线基本相似。集成电路产业按照摩尔定律持续发展,制程节点不断减小,同时半导体制造技术极其精细,制造工艺极其复杂,根据产品的不同,集成电路生产需要几十步甚至上千步工艺,且对产品的良率要求极高。




IC制造过程中,主要工艺包括扩散(Thermal  Process)、光刻(Photolithography)、刻蚀(Etch)、 离子注入(Ion  Implant)、薄膜生长(Dielectric Deposition)、抛光(CMP)、金属化(Metallization)7个主要工艺。这些主要工艺又可细分为具体工艺,不同具体工艺都需要不同的半导体设备以满足IC制造中不同的需求。




伴随着我国经济的高速发展,智能手机和平板电脑市场呈爆发式增长,对各类集成电路产品需求不断增长,中国已经成为全球最大的半导体需求市场。2018年全球半导体市场规模约为4373亿美元,中国半导体市场规模约为1220亿美元,中国已经成为全球最大的半导体消费市场。




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